高周波の次回を被加熱物に与えると、被加熱物に渦電流が流れ、被加熱物自身が発熱されます。
渦電流は、表面に大きく、内部にゆくにつれて弱くなります。また、周波数が高いほど加熱が表面に集中します。

• 昇温が非常に速く、クリーンな加熱が実現します。
• 被加熱物自身から発熱するため、発熱量のコントロールも容易です。
• 迅速加熱、極所過熱でエネルギーの無駄がありません。
• 加熱深度、加熱温度が自由にコントロールできます。
• 非、強の磁性体を問わず、あらゆる金属の加熱、溶解が行えます。

• 各種金属の加熱、溶解
• 金属の焼入れ、ろう付、焼ばめ、焼もどし等の熱処理
• 半導体製造装置
• Ｘ線分析用ビート、サンプル高周波加熱装置
• ボンバーター用電源
• 各種乾燥装置